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氫氟酸

電子級(jí)氫氟酸

電子級(jí)氫氟酸 

1、產(chǎn)品用途


產(chǎn)品主要用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路(VLSI)制造中,電子級(jí)高純氫氟酸是關(guān)鍵輔助材料之一。主要用于晶圓表面清洗、芯片加工過程中的清洗和蝕刻等工序。在太陽能光伏行業(yè)中,用于硅片表面清洗、蝕劑等領(lǐng)域。硅錠到硅片,再到電池片的第一道工藝程序:清洗制絨環(huán)節(jié)會(huì)用到產(chǎn)品。在液晶顯示器行業(yè),用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蝕劑等。在TFT—LCD、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中也被廣泛使用。還可用作分析試劑、原子能工業(yè)化學(xué)試劑和制備高純度的含氟化學(xué)品。目前,在國內(nèi)基本上是作為蝕刻劑和清洗劑用于微電子行業(yè),其他方面用量較少。

2、產(chǎn)品分類

UP—S級(jí):適用于0.35—0.80um集成電路加工工藝,金屬雜質(zhì)含量低于1.00ug/L,經(jīng)過0.05um孔徑過濾器過濾,控制0.20Ixm粒子,在100級(jí)凈化環(huán)境中灌裝達(dá)到SEMIC8標(biāo)準(zhǔn)。

UP級(jí):適用于1.00um集成電路及TFT—LCD制造工藝,金屬雜質(zhì)含量低于10mg/kg,經(jīng)過0.20um孔徑過濾器過濾,控制0.50um粒子,在100級(jí)凈化環(huán)境中灌裝,達(dá)到SEMIC7標(biāo)準(zhǔn)。

EL級(jí):金屬雜質(zhì)含量低于100mg/kg,控制1.00um粒徑粒子,達(dá)到SEMI C1,C2標(biāo)準(zhǔn),適合中小規(guī)模集成電路及電子元件加工工藝。

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